Koja je razlika između orijentiranog elektrotehničkog čelika i neorijentiranog elektrotehničkog čelika?

Koja je razlika između orijentiranog elektrotehničkog čelika i neorijentiranog elektrotehničkog čelika?

1, obje su hladno valjane silikonske čelične ploče, ali sadržaj silicija je različit. Sadržaj silicija u hladno valjanom neorijentiranom silicijskom čeličnom limu je 0,5%-3.0%, a sadržaj silicija u hladno valjanom orijentiranom silicijskom čeličnom limu je više od 3.0%.
2, proizvodni proces i izvedba različitih: neorijentiranih silicijskih čeličnih limova od orijentiranih silicijskih čeličnih limova procesni zahtjevi su relativno niski. Neorijentirani silikonski čelični lim je vruće valjana gredica ili gredica kontinuiranog lijevanja u debljinu od oko 2,3 mm koluta. Za proizvode s niskim sadržajem silicija, vruće valjani koluti se hladno valjaju na 0.5 mm debljine nakon luženja. Prilikom izrade proizvoda s visokim sadržajem silicija, nakon dekapiranje vrućim valjanjem (ili nakon normalizacije na 8{{10}}0 ~ 850 stupnjeva i zatim dekapiranjem), hladno valjanje do {{24 }}.55 ili 0.37 mm debljine, žarenje na 850 stupnjeva u kontinuiranoj peći s atmosferom mješavine vodika i dušika, a zatim hladno valjanje na 0,50 ili 0,35 mm debljine uz 6 ~ 10% niskog tlaka. Ova mala stopa smanjenja hladnog valjanja može povećati veličinu zrna i smanjiti gubitak željeza tijekom žarenja. Obje hladno valjane ploče su konačno žarene na 850 stupnjeva u kontinuiranoj peći u atmosferi smjese 20% vodika i dušika, a zatim obložene fosfatnim i kromatnim izolacijskim filmom. Nakon hladnog valjanja do debljine gotovog proizvoda, stanje isporuke je uglavnom čelična traka debljine 0,35 mm i 0,5 mm. Bs hladno valjanog neorijentiranog silikonskog čelika viši je od onog orijentiranog silicijskog čelika.
Orijentirani silicijski čelični lim zahtijeva nizak sadržaj inkluzije čeličnog oksida i mora sadržavati C{{0}}.03 ~ 0,05% i inhibitore (element segregacije čestica disperzije druge faze ili granice zrna).

Učinak inhibitora je sprječavanje rasta zrna primarne rekristalizacije i promicanje razvoja sekundarne rekristalizacije, čime se postiže visoka (110)[001] orijentacija. Sam inhibitor je štetan za magnetizam, pa se nakon završetka inhibicije mora pročistiti i žariti na visokoj temperaturi. Kada se koristi inhibitor druge faze, temperatura zagrijavanja ploče mora se povećati kako bi se izvorna gruba čestica druge faze napravila čvrstom otopinom, a zatim se fine čestice talože tijekom vrućeg valjanja ili normalizacije kako bi se pojačao učinak inhibicije. Hladno valjani gotov proizvod debljine 0.28, 0.30 ili 0.35 mm. Hladno valjana orijentirana tanka silikonska čelična traka je orijentirana silikonska čelična traka debljine 0,30 ili 0,35 mm, a zatim se vrši dekapiranje, hladno valjanje i žarenje. U usporedbi s hladno valjanim neorijentiranim silicijskim čelikom, gubitak orijentiranog silicijskog čelika mnogo je manji nego kod neorijentiranog silicijskog čelika, a magnetska svojstva su snažno usmjerena. Ima vrhunske karakteristike visoke propusnosti i malih gubitaka u smjeru kotrljanja koji se lako magnetizira. Gubitak željeza orijentirane čelične trake u smjeru valjanja je samo 1/3 poprečnog, omjer propusnosti je 6:1, gubitak željeza je oko 1/2 vruće valjane trake, a propusnost je 2,5 puta veća od ovo drugo.
3, performanse i upotreba: zbog različitih karakteristika performansi ova dva, postoje razlike u smjeru upotrebe hladno valjanog neorijentiranog silikonskog čeličnog lima, najvažnija upotreba je za proizvodnju generatora, tako da je također poznat kao hladno -motorni silikonski čelik. Glavna upotreba hladno valjane orijentirane silicijeve čelične trake je za proizvodnju transformatora, pa se naziva i hladno valjani transformatorski silicijski čelik.