Kakav je odnos između neorijentiranih silicijskih čeličnih limova i orijentiranih silicijskih čeličnih limova

1. Oba su hladno valjana silikonska čelična lima, ali je sadržaj silicija različit. Sadržaj silicija u hladno valjanom neorijentiranom silicijskom čeličnom limu iznosi 0,5 posto -3.0 posto, a sadržaj silicija u hladno valjanom orijentiranom silicijskom čeličnom limu je više od 3.0 posto.
2. Proizvodni proces i izvedba su različiti: zahtjevi procesa za neorijentirani silicijski čelični lim relativno su niži nego za orijentirani silicijski čelični lim.
Neorijentirani silikonski čelični lim je gredica ili gredica kontinuiranog lijevanja vruće valjana u traku debljine oko 2,3 mm. Pri proizvodnji proizvoda s niskim sadržajem silicija, vruće valjane zavojnice traka se dekapiraju i hladno valjaju na 0.5 mm debljine odjednom. Pri proizvodnji proizvoda s visokim sadržajem silicija, nakon luženja s vruće valjanom trakom (ili prvo nakon normalizacije na 800~850 stupnjeva i zatim luženja), hladno valjano na 0 .55 ili 0.37 mm debljine, žareno na 850 stupnjeva u kontinuiranoj peći s miješanom atmosferom vodika i dušika, a zatim hladno valjano na 0,50 ili 0,35 mm debljine s 6~10 posto malom kompresijom. Hladno valjanje s ovom malom stopom depresije može pospješiti rast zrna i smanjiti gubitak željeza tijekom žarenja. Obje hladno valjane ploče konačno su žarene u kontinuiranoj peći na 850 stupnjeva u atmosferi s 20 posto vodika i dušika, nakon čega slijedi izolacijski film obložen fosfatom i kromatom. Nakon hladnog valjanja do debljine gotovog proizvoda, stanje isporuke je uglavnom čelična traka debljine 0,35 mm i 0,5 mm. Bs hladno valjanog neorijentiranog silicijskog čelika viši je od Bs orijentiranog silicij čelika.
Orijentirani silikonski čelični lim zahtijeva nizak sadržaj oksida u čeliku i mora sadržavati C{{0}}.03~0.05 posto i inhibitore (drugi čestice fazne disperzije ili segregacijski elementi granica zrna). Učinak inhibitora je sprječavanje rasta zrnaca primarne rekristalizacije i promicanje razvoja sekundarne rekristalizacije, čime se postiže visoka (110) [001] orijentacija. Sam inhibitor je štetan za magnetizam, pa se nakon završetka inhibitornog učinka mora pročistiti i žariti na visokoj temperaturi. Kada se koristi inhibitor druge faze, temperatura zagrijavanja ploče mora se povećati kako bi se dobila originalna krupna čvrsta otopina čestica druge faze, a zatim istaložiti s finim česticama tijekom vrućeg valjanja ili normalizacije kako bi se pojačao inhibicijski učinak. Debljina hladno valjanog gotovog proizvoda je 0,28, 0,30 ili 0,35 mm. Hladno valjana orijentirana tanka silikonska čelična traka izrađena je od 0,30 ili 0,35 mm debele orijentirane silikonske čelične trake, a zatim dekapirana, hladno valjana i žarena. U usporedbi s hladno valjanim neorijentiranim silicijskim čelikom, orijentirani silicijski čelik ima mnogo manje gubitke od neorijentiranog silicijskog čelika, a magnetizam ima jaku usmjerenost; Ima izvrsnu visoku propusnost i niske gubitke u smjeru kotrljanja koji se lako magnetizira. Gubitak željeza orijentirane čelične trake u smjeru valjanja je samo 1/3 poprečnog, omjer magnetske propusnosti je 6:1, a gubitak željeza je oko 1/2 gubitka toplovaljane trake, a magnetski propusnost je 2,5 puta veća od potonje.
3. Izvedba i uporaba: Zbog različitih karakteristika izvedbe dvaju, postoje razlike u smjeru uporabe, najvažnija uporaba hladno valjanog neorijentiranog silikonskog čeličnog lima je za proizvodnju generatora, pa je također poznat kao hladno valjani motorni silikonski čelik. Najvažnija uporaba hladno valjane orijentirane silicijeve čelične trake je za proizvodnju transformatora, pa se također naziva hladno valjani transformatorski silicijski čelik.